本实用新型提供的基片固定装置及物理气相沉积设备，其包括载板、压块和至少一对按压结构；其中，载板用于承载基片，压块位于载板的上方，每对按压结构分别设置于压块及载板相对应的两端，按压结构包括弹性件、第一弹板和第二弹板，第一弹板的第一端与压块连接，第二弹板的第一端与载板可伸缩的连接，第一弹板的第二端和第二弹板的第二端通过弹性件连接，弹性件用于使第一弹板的第一端与第二弹板的第一端彼此远离。借助按压结构将压块按压在载板上，既避免使用气缸等部件，从而能够在真空环境中对载板上的基片进行固定，又避免使用磁吸的方式，从而避免了对磁控溅射中的电磁场产生干扰。