保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备。所述保持装置(5)包括具有与晶片载体(6)的齿条(10a)接触的刷子(14a，14b)的刷单元(13)，其中：刷子(14a，14b)设计为条形刷子，刷子(14a，14b)具有无金属的刷毛(15)；刷子(14a，14b)具有包含塑料优选包含聚丙烯的刷毛(15)。刷单元(13)具有可枢转地安装的刷子保持器(16)，刷子(14a，14b)被安装在该刷子保持器上。
基本信息
专利标题 ：
保持装置、载体保持装置系统以及晶片干燥设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921676611.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-10-02
授权号 ：
CN211700199U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
尼尔斯·卡斯腾森
申请人 ：
雷纳技术有限责任公司
申请人地址 ：
德国古滕巴赫市78148高路街1号
代理机构 ：
北京金恒联合知识产权代理事务所
代理人 ：
李强
优先权 ：
CN201921676611.2
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/673 H01L21/683 F26B5/00
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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