用于硅晶片清洗的耐腐蚀耐高温工装

授权

摘要

本实用新型公开了用于硅晶片清洗的耐腐蚀耐高温工装，包括两个手提箱板和两个插口板，两个手提箱板相互平行，两个插口板相互平行，且两个插口板两端分别榫接于手提箱板的一端，两个手提箱板和两个插口板收尾相连，形成供硅晶片放置的框体。手提箱板的两个竖直侧边上均设置有第一榫接部，插口板的两个竖直侧边上均设置有第二榫接部，第一榫接部和第二榫接部相互匹配，第一榫接部为手提箱板侧边上设置的楔形凹槽，第二榫接部为插口板侧边上设置的楔形凸起，楔形凹槽和楔形凸起的形状相匹配，且位置一一对应。两个手提箱板间可拆卸连接有若干用于硅晶片托底的托杆。手提箱板、插口板和托杆均为聚四氟乙烯。该工装无需焊接，耐高温耐腐蚀，方便拆卸。

基本信息

专利标题：

用于硅晶片清洗的耐腐蚀耐高温工装

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921771159.8

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-21

授权号：

CN210722973U

授权日：

2020-06-09

发明人：

闵霞顾正龙

申请人：

张家港海扬超声清洗设备有限公司

申请人地址：

江苏省苏州市张家港杨舍镇塘市南庄村金港大道848号张家港海扬超声清洗设备有限公司

代理机构：

无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)

代理人：

许云峰

优先权：

CN201921771159.8

主分类号：

H01L21/673

IPC分类号：

H01L21/673 H01L21/67