一种新型的靶材邦定机构
授权
摘要
本实用新型公开一种新型的靶材邦定机构，包括一具有加热与冷却的组件、设置该组件内的一靶材机构、与该组件配合且设置在靶材机构内的一芯杆加热器、以及与芯杆加热器连接的一驱动机构。本实用新型采用靶材及靶筒相对固定，而具有加热与冷却的组件能控制冷却与加热的切换，使得靶材一次冷态安装就可以完成邦定过程，并且大大降低了对邦定车间厂房高度的要求；如此，对近4米的靶材，只需约8米多的厂房就可以工作降低厂房高度要求，节约厂房成本；降低安装次数、劳动强度，改善生产条件；改善产品品质，使过程更受控。
基本信息
专利标题 ：
一种新型的靶材邦定机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922140925.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-03
授权号 ：
CN210945764U
授权日 ：
2020-07-07
发明人 ：
胡茂横张剑华冯群
申请人 ：
深圳恒泰克科技有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市坪山区坑梓街道办事处秀新社区锦绣中路14号深福保现代光学厂区一期厂房103C区
代理机构 ：
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 ：
宋鹏跃
优先权 ：
CN201922140925.7
主分类号 ：
C23C14/34
IPC分类号 ：
C23C14/34
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
法律状态
2020-07-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
