一种无掩膜光刻用微透镜加工用快速定位工装
授权
摘要
本实用新型公开了一种无掩膜光刻用微透镜加工用快速定位工装，包括工作台，所述工作台的上端外表面设置有内螺纹块，所述内螺纹块的内侧贯穿设置有螺纹杆，且螺纹杆与内螺纹块之间为螺纹连接，所述螺纹杆的两端处分别设置有连接头与压头，所述工作台的上端外表面靠近一侧边沿处设置有支撑结构，所述工作台的前端设置有放置结构。本实用新型所述的一种无掩膜光刻用微透镜加工用快速定位工装，通过设置有支撑结构，软垫部分相比于传统的胶接的方式，更易取下与安装，确保保护的效果，通过设置有放置结构，有利于镜片的临时存放，存放后不易滑动而使得表面被刮花，提高加工品质。
基本信息
专利标题 ：
一种无掩膜光刻用微透镜加工用快速定位工装
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922388282.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-26
授权号 ：
CN211348991U
授权日 ：
2020-08-25
发明人 ：
张博路海马伟生武鹏刘洪涛
申请人 ：
新乡市百合光电有限公司
申请人地址 ：
河南省新乡市新乡经济开发区玉龙路西段
代理机构 ：
新乡市平原智汇知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨杰
优先权 ：
CN201922388282.8
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-08-25 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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