本发明实施例提供一种存储器的制造方法及存储器，包括：提供基底，在基底上形成第一隔离层及分立的位线，第一隔离层位于位线远离基底的表面且还位于相邻位线之间；去除部分厚度的第一隔离层，形成分立的第一沟槽；形成填充第一沟槽的字线，字线与位线之间具有部分厚度的第一隔离层，字线具有相对的第一侧壁及第二侧壁，在字线之间形成分立的通孔，通孔暴露字线相对的第一侧壁、第二侧壁及位线表面；在第一侧壁表面形成第一介质层，在第二侧壁表面形成第二介质层；第一介质层的等效栅介质层厚度大于第二介质层的等效栅介质层厚度；形成填充通孔的有源层。本发明实施例能够提高字线、位线及有源层的排列密度，进而缩小存储器的尺寸。