大偏角蓝宝石衬底上氮化镓模板的制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明提供一种大偏角蓝宝石衬底上氮化镓模板的制备方法,包括:步骤1),提供一蓝宝石衬底,将蓝宝石衬底送进MOCVD反应腔,蓝宝石衬底的外延面取向为c面且向a面倾斜一偏角,偏角大于等于0.2°;步骤2),在蓝宝石衬底上沉积低温缓冲层;步骤3),在低温缓冲层上进行超晶格生长,超晶格为二维生长层与三维生长层交替生长堆叠而成;步骤4),在超晶格上进行氮化镓模板层的生长。本发明可以在c面偏向a面0.2°以上的蓝宝石衬底上获得具有平整表面、晶体质量高的c面且偏向m面的氮化镓模板,使用该氮化镓模板可以获得c面且偏向m面的氮化镓单晶,进而获得性能良好的氮化镓基垂直结构功率器件。

基本信息
专利标题 :
大偏角蓝宝石衬底上氮化镓模板的制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114551217A
申请号 :
CN202011343593.3
公开(公告)日 :
2022-05-27
申请日 :
2020-11-25
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
敖辉孙明庄文荣颜建锋
申请人 :
东莞市中镓半导体科技有限公司
申请人地址 :
广东省东莞市企石镇科技工业园
代理机构 :
上海光华专利事务所(普通合伙)
代理人 :
罗泳文
优先权 :
CN202011343593.3
主分类号 :
H01L21/02
IPC分类号 :
H01L21/02  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
法律状态
2022-06-14 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/02
申请日 : 20201125
2022-05-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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