一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法
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摘要

本发明公开了一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法,步骤一、初始状态;第一水平放置板、第二水平放置板均处于水平状态,第一垂直放置板、第二垂直放置板处于垂直状态,第一晶圆盒内装载有晶圆片;步骤二、晶圆片转移;第一放置架、第二放置架同时转动九十度,滑动推手动作,由第一晶圆盒的底部镂空处将第一晶圆盒内的晶圆片推到第二晶圆盒内;步骤三、晶圆片侦测;第一放置架、第二放置架同时反向转动九十度,第一晶圆盒、第二晶圆盒的开口向上,检测气缸推动检测传感器同时向上运动,对第二晶圆盒内的晶圆片进行检测;步骤四、晶圆盒夹取。本发明能够实时对晶圆片进行侦测,保证了晶圆片的清洗效率,大幅提升了半导体湿法工艺设备的稼动率。

基本信息
专利标题 :
一种晶圆清洗设备晶圆片高速装载方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112736002A
申请号 :
CN202011636157.5
公开(公告)日 :
2021-04-30
申请日 :
2020-12-31
授权号 :
CN112736002B
授权日 :
2022-06-07
发明人 :
陈新来邓信甫刘大威陈丁堃
申请人 :
至微半导体(上海)有限公司
申请人地址 :
上海市闵行区紫海路170号1幢3层03室
代理机构 :
上海智力专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
孙金金
优先权 :
CN202011636157.5
主分类号 :
H01L21/677
IPC分类号 :
H01L21/677  H01L21/67  
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IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的,例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-06-07 :
授权
2021-05-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/677
申请日 : 20201231
2021-04-30 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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