一种晶圆清洗方法及晶圆清洗装置
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种晶圆清洗方法及晶圆清洗装置，所述清洗方法包括：将晶圆放置于晶圆清洗装置中，支撑组件朝向晶圆移动，所述支撑组件配置的主动辊及从动辊抵接于晶圆的外沿以水平夹持晶圆；控制部驱动所述主动辊转动，所述支撑组件夹持的晶圆绕轴线旋转；转速监测部实时测量所述从动辊的转速，并将测量结果传输至控制部；若从动辊与主动辊转速的差值大于转速阈值，则控制部调节支撑组件对晶圆的夹持力，使得从动辊与主动辊的转速同步；位于晶圆两侧的滚刷清洗晶圆表面。
基本信息
专利标题 ：
一种晶圆清洗方法及晶圆清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114472265A
申请号 ：
CN202111671421.3
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-12-31
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘飞王江涛刘远航
申请人 ：
华海清科股份有限公司
申请人地址 ：
天津市津南区咸水沽海河科技园聚兴道11号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111671421.3
主分类号 ：
B08B1/02
IPC分类号 ：
B08B1/02 B08B13/00 H01L21/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/02
运动中工件的清洁，如在传送装置上的成卷织物或物品
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : B08B 1/02
申请日 : 20211231
申请日 : 20211231
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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