一种半导体晶片表面抛光装置
专利权的终止
摘要

本实用新型涉及半导体晶片生产工艺设备技术领域,且公开了一种半导体晶片表面抛光装置,包括外壳,所述外壳前立面的顶部固定连接有基板,所述基板的顶部固定安装有支杆,所述支杆的顶部固定安装有连接杆,所述连接杆的底部远离支杆的一端固定安装有液压缸一。该种半导体晶片表面抛光装置,在半导体晶片的一面打磨完成后,气缸一与气缸二的输出端限位块一和限位块二伸出,将圆晶卡接在限位块一和限位块二之间,液压缸一驱动抛光头上行,此时,电机一启动驱动安装基座旋转一百八十度,使未打磨的圆晶底部变为顶部,液压缸一驱动抛光头下行至与圆晶表面相抵位置,即完成对圆晶两面的抛光,避免对圆晶二次装夹,导致半导体晶片表面发生磕碰损坏问题。

基本信息
专利标题 :
一种半导体晶片表面抛光装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020264432.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-03-06
授权号 :
CN212071562U
授权日 :
2020-12-04
发明人 :
毕泽
申请人 :
江苏广坤铝业有限公司
申请人地址 :
江苏省徐州市邳州市碾庄镇五金机械产业园创优路1号
代理机构 :
北京高航知识产权代理有限公司
代理人 :
乔浩刚
优先权 :
CN202020264432.4
主分类号 :
B24B37/08
IPC分类号 :
B24B37/08  B24B37/28  B24B37/34  B24B55/02  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置;附件
B24B37/04
适用于加工平面的
B24B37/07
以工件或研具的运动为特征
B24B37/08
用于双侧研磨
法律状态
2022-02-25 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : B24B 37/08
申请日 : 20200306
授权公告日 : 20201204
终止日期 : 20210306
2020-12-04 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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