本实用新型涉及一种适用于超薄硅片的腐蚀装置，属于集成电路或分立器件制造技术领域。包括机座和腐蚀花篮，所述机座上设有第一转轴，所述第一转轴上固定设有两摆臂，所述摆臂下方设有酸槽和水槽，所述酸槽和水槽沿水平平行设置，所述腐蚀花篮转动设于两摆臂之间，受第一电机驱动使得第一转轴转动，带动两摆臂、腐蚀花篮同步转动，实现腐蚀花篮在酸槽和水槽之间任意切换；所述腐蚀花篮内设置用于放置超薄硅片的腐蚀专用片架，受第二驱动装置驱动使得第二转轴转动，带动腐蚀花篮在酸槽内旋转。本申请不仅结构简单，操作方便，而且降低了超薄硅片的腐蚀碎片率，减少了硅片的损失，降低了生产成本，提高了生产效率。