一种半导体晶舟沉积物清理装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种半导体晶舟沉积物清理装置，包括壳体和晶舟，所述晶舟固定安装在壳体的内部，所述壳体的上端固定连接有清理装置，所述晶舟的底端固定连接有底箱，且底箱)的底端固定连接在壳体的内部底端。该半导体晶舟沉积物清理装置，通过设置清理装置等结构，在对晶舟上的晶圆进行沉积物清理的时候，只需要通过点击带动清理装置底端的转轴将清理杆转动至竖直位置，同时转轴表面的连接杆在滑槽内带动清理杆移动至晶舟的中间位置，同时通过连接进气管和出气管至清理装置内部并与清理杆和伸缩杆表面的喷嘴处进行连接，即可利用喷嘴对晶舟上的晶圆进行清理，达到了自动清理晶舟内部沉积物的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种半导体晶舟沉积物清理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021022129.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-06
授权号 ：
CN213495359U
授权日 ：
2021-06-22
发明人 ：
王璐瑶
申请人 ：
广州市睿高电子科技有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区光谱西路69号TCL文化产业园科创楼101-102室（仅限办公）
代理机构 ：
广州科捷知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁嘉恩
优先权 ：
CN202021022129.X
主分类号 ：
B08B5/02
IPC分类号 ：
B08B5/02 B08B13/00 H01L21/673
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁，如吹清凹处
法律状态
2021-06-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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