低栅电荷开关场效应晶体管
授权
摘要
本实用新型提供了一种低栅电荷开关场效应晶体管,包括多个叉指结构,每个叉指结构包括:P型基底,从所述P型基底的部分顶面至内部设置有深N阱;从所述深N阱的部分顶面至内部设置有P阱和第一N型掺杂区;从所述P阱的部分顶面至内部设置有PN结掺杂区,所述PN结掺杂区作为源极;所述P阱的另一部分顶面上设置有POLY层;其中,所述POLY层上间隔挖设有多个通孔,每个所述通孔下的所述P阱中为P型重掺杂区域,所述POLY层和所述P型重掺杂区域相连作为栅极。本实用新型可以有效提高器件的导通均匀性,从而降低导通电阻。把栅极挖空部分与栅端连一起,当栅极信号来临时能较快地开启整个器件,达到快速开关的目的。
基本信息
专利标题 :
低栅电荷开关场效应晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021100901.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-06-15
授权号 :
CN212010984U
授权日 :
2020-11-24
发明人 :
茅寅松吴岩
申请人 :
上海安导电子科技有限公司
申请人地址 :
上海市奉贤区海湾镇五四支路171号14幢92室
代理机构 :
上海段和段律师事务所
代理人 :
李佳俊
优先权 :
CN202021100901.5
主分类号 :
H01L29/78
IPC分类号 :
H01L29/78 H01L29/06 H01L29/417
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法律状态
2020-11-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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