一种基于物理气相沉积的涂层设备
授权
摘要
本实用新型提供了一种基于物理气相沉积的涂层设备，属于物理气相沉积技术领域。该基于物理气相沉积的涂层设备包括真空镀膜腔、发射源、承载架和翻料组件。所述发射源设置于所述真空镀膜腔内部顶端，所述真空镀膜腔内部安装有电动滑台，所述承载架设置于所述发射源下方，且一侧与所述电动滑台的移动端固定连接，所述翻料组件包括夹具和驱动电机，所述夹具转动安装于所述承载架表面。本实用新型通过驱动电机驱动待镀膜工件转动，提高待镀膜工件的镀膜范围，可使工件表面的镀膜更加均匀，可提高镀膜效果，此外，通过电动滑台，可调节待镀膜工件的位置，可提高待镀膜工件镀膜的稳定性，进而提高镀膜效果。
基本信息
专利标题 ：
一种基于物理气相沉积的涂层设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021220672.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-06-28
授权号 ：
CN212741515U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
孟进
申请人 ：
上海畅桥真空系统制造有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区山富东路365号4幢
代理机构 ：
北京沁优知识产权代理有限公司
代理人 ：
方仕杰
优先权 ：
CN202021220672.0
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/56 C23C14/24 C23C14/34
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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