一种防反溅射物剥落的靶材
授权
摘要
本实用新型涉及一种防反溅射物剥落的靶材，所述防反溅射物剥落的靶材的上表面边缘设置有倒角，所述倒角的表面设置有第三滚花花纹区；所述防反溅射物剥落的靶材上表面边缘，由外向内依次有第二滚花花纹区以及第一滚花花纹区；所述第一滚花花纹区中的花纹为四棱台状花纹，花纹大小为10‑30TPI。本实用新型通过对靶材结构进行改进，通过分别设置的第一滚花花纹区、第二滚花花纹区以及第三滚花花纹区来吸附磁控溅射过程中产生的反溅射物，同时结构简单，便于加工，能够以较少成本达到提高靶材溅射寿命的效果。
基本信息
专利标题 ：
一种防反溅射物剥落的靶材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022156696.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-27
授权号 ：
CN213417001U
授权日 ：
2021-06-11
发明人 ：
姚力军边逸军潘杰王学泽李宁
申请人 ：
宁波江丰电子材料股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
王岩
优先权 ：
CN202022156696.0
主分类号 ：
C23C14/35
IPC分类号 ：
C23C14/35
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/34
溅射
C23C14/35
利用磁场的，例如磁控溅射
法律状态
2021-06-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
