一种用于硅片清洗的槽式湿法花篮
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摘要
本实用新型公开了一种用于硅片清洗的槽式湿法花篮，属于光伏设备技术领域。本实用新型的槽式湿法花篮，包括花篮端板、花篮侧杆组和加固侧杆，花篮端板的两侧均设有两个花篮侧杆组，两个花篮侧杆组中，其中一个位于花篮端板的上部，另一个位于花篮端板的下部；花篮侧杆组均包括两个间隔设置的花篮杆，位于花篮端板同侧的四个花篮杆中，中间相邻的两个花篮杆之间的间距为a，a满足关系式：a≥40mm，其余两个花篮杆之间的间距为b，b满足关系式：b≥120mm。花篮杆之间的间距增加，保证硅片不会粘片。花篮杆的直径及卡齿的高度均降低，避免花篮杆阻挡喷淋水线，减小卡齿印，清洗效果更好。
基本信息
专利标题 ：
一种用于硅片清洗的槽式湿法花篮
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022344263.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-20
授权号 ：
CN213635926U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
张临安沈雯邓伟伟
申请人 ：
苏州阿特斯阳光电力科技有限公司;阿特斯阳光电力集团股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市高新区鹿山路199号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022344263.8
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 H01L21/67
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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