一种晶片清洗槽
授权
摘要
本实用新型公开了一种晶片清洗槽，涉及半导体材料技术领域。本实用新型的一种晶片清洗槽，包括槽体以及和槽体相匹配的槽盖，所述槽体内固定安装有旋转装置，所述旋转装置包括转动安装在槽体底面的旋转底座，以及安装在旋转底座上的转动机构和两组驱动机构，所述转动机构包括转动轴，所述转动轴上套设有转动柱，所述转动轴的两端和对应的驱动机构之间连接有支撑杆，一侧所述支撑杆上固定安装有旋转电机，所述旋转电机的输出轴和转动轴固定连接。本实用新型公开了一种晶片清洗槽，通过在槽体内设置的旋转装置，保证了晶片各部分在清洗的过程中都能够充分清洗到，保证了晶片清洗的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种晶片清洗槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022458766.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
CN214184328U
授权日 ：
2021-09-14
发明人 ：
毕洪伟周一
申请人 ：
威科赛乐微电子股份有限公司
申请人地址 ：
重庆市万州区万州经开区高峰园B02
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晨
优先权 ：
CN202022458766.8
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10 B08B3/02 B08B13/00 H01L21/67
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2021-09-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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