基板处理监控
实质审查的生效
摘要
一种用于在处理腔室内处理基板的方法，包含以下步骤：接收与设置在处理腔室内的目标元件上的膜相对应的第一辐射信号；分析第一辐射信号；和基于分析的第一辐射信号来控制基板的处理。处理腔室包括：基板支撑件，配置成将基板支撑在处理空间内；和控制器，耦合到配置成接收第一辐射信号的第一感测装置。
基本信息
专利标题 ：
基板处理监控
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114270487A
申请号 ：
CN202080053036.X
公开（公告）日 ：
2022-04-01
申请日 ：
2020-06-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朱作明刘树坤阿拉·莫拉迪亚朱恩乐芙洛拉·芳-松·张维伦·K·内斯托洛夫叶祉渊宾杜萨加·马拉·圣卡拉通马克西姆·D·沙波什尼科夫苏伦德拉·辛格·斯利瓦斯塔瓦丛者澎帕特里夏·M·刘埃罗尔·C·桑切斯詹妮·C·林舒伯特·S·楚巴拉克里希南·R·贾姆帕纳
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN202080053036.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67 H01L21/66
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-04-19 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20200626
申请日 : 20200626
2022-04-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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