具有存储室的处理装置和外延反应器
公开
摘要
用于外延反应器(1000)的处理装置(900)包括：用于处理基片的反应室(100)；邻近反应室(100)的用于传送被放置在基片支撑设备上的基片的传送室(200)；至少部分地邻近传送室(200)的被布置成容纳具有一个或更多个基片的基片支撑设备的装载/卸载组(300)；至少部分邻近装载/卸载组(300)的装载/卸载室(400)，其具有用于已处理的和/或未处理的基片的第一存储区(410)和用于没有任何基片的基片支撑设备的第二存储区(420)；用于在所述装载/卸载室(400)和所述装载/卸载组(300)之间传送已处理的基片、未处理的基片和不具有任何基片的基片支撑设备的至少一个外部机器人(500)；用于在所述装载/卸载组(300)和所述反应室(100)之间经由所述传送室(200)传送具有一个或更多个基片的基片支撑设备的至少一个内部机器人(600)；其中所述外部机器人(500)包括铰接臂(510)，该铰接臂被布置成操纵已处理的基片和未处理的基片两者以及基片支撑设备。
基本信息
专利标题 ：
具有存储室的处理装置和外延反应器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114450439A
申请号 ：
CN202080068618.5
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2020-10-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
西尔维奥·佩雷蒂弗朗西斯科·科里亚
申请人 ：
洛佩诗公司
申请人地址 ：
意大利米兰巴兰扎泰
代理机构 ：
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 ：
张瑞
优先权 ：
CN202080068618.5
主分类号 ：
C30B25/08
IPC分类号 ：
C30B25/08 C30B25/12 H01L21/67 H01L21/677
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长；共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层；材料的区熔精炼；具有一定结构的均匀多晶材料的制备；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料；单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理；其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长，例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/08
反应室；其所用材料的选择
法律状态
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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