用于氢化物气相外延的均匀生长反应器

授权

摘要

本实用新型公开了用于氢化物气相外延的均匀生长反应器，它包括：石英腔（1）；所述石英腔内设有均气环（2），所述均气环的环面上均布有若干通孔（3），所述石英腔的底部开设有两个排气口，所述两个排气口上连通有Y型排气管（4）的两个分管，所述Y型排气管的主管与外界连通。本实用新型的有益效果是石英腔中加装集气环，改善制程气体分布的均匀性；将HVPE的底座单排气口改成对称的双排气口。单尾气管路改成Y型双尾气管路，增大尾气管路的直径，同时双边排气，降低因单边排气造成管路堵塞而触发尾气压力偏高的报警；改善制程气体的均匀性，控制制程气体的流体方向，便于控制晶圆的翘曲度，明显提升晶圆的质量，降低后道减薄工艺的难度。

基本信息

专利标题：

用于氢化物气相外延的均匀生长反应器

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202022170723.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-09-28

授权号：

CN213327930U

授权日：

2021-06-01

发明人：

王宏亮姚惟梁

申请人：

镓特半导体科技（铜陵）有限公司

申请人地址：

安徽省铜陵市经济技术开发区天门山北道3139号

代理机构：

铜陵市嘉同知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

吴晨亮

优先权：

CN202022170723.X

主分类号：

C30B25/14

IPC分类号：

C30B25/14