一种用于半导体晶片排列成型治具
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摘要

本发明公开了一种用于半导体晶片排列成型治具,包括底板,所述底板的顶部通过支撑腿固定有顶板,所述顶板的顶部设置有用于对晶片表面进行抛光的抛光机构,所述抛光机构下方的底板顶部设置有用于对抛光后的晶片进行覆膜的覆膜机构,所述覆膜机构包括两个轴承板,两个所述轴承板分别固定在底板前后两侧的顶部,两个所述轴承板的相对面共同单向转动安装有转动轴,所述转动轴的外壁固定有转盘,所述转盘的外壁设置有多个用于吸附固定抛光后晶片的活塞管,且多个所述活塞管呈环形排列分布。本发明通过结构之间的配合,达到了将晶片表面抛光后对其进行覆膜的效果,同时还可以较少薄膜与晶片之间的气泡,使之包覆更加完全。

基本信息
专利标题 :
一种用于半导体晶片排列成型治具
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113231945A
申请号 :
CN202110703347.2
公开(公告)日 :
2021-08-10
申请日 :
2021-06-24
授权号 :
CN113231945B
授权日 :
2022-04-08
发明人 :
张正辉单良平沈智慧黄军明
申请人 :
深圳市智动精密设备有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区石岩街道塘头社区厂房A栋1层南侧
代理机构 :
深圳市锟剑恒富知识产权代理有限公司
代理人 :
温玉珍
优先权 :
CN202110703347.2
主分类号 :
B24B29/02
IPC分类号 :
B24B29/02  B24B47/12  B24B41/00  B24B41/06  B24B55/00  B29C63/02  B29C63/40  B29C63/00  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2022-04-08 :
授权
2022-04-01 :
专利申请权、专利权的转移
专利申请权的转移IPC(主分类) : B24B 29/02
登记生效日 : 20220318
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 深圳市智动精密设备有限公司
变更后权利人 : 深圳市智立方自动化设备股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道塘头社区厂房A栋1层南侧
变更后权利人 : 518000 广东省深圳市宝安区石岩街道塘头社区厂房A栋1层至3层
2021-08-27 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 29/02
申请日 : 20210624
2021-08-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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