硅片碱抛光用添加剂及其应用
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摘要
本发明公开了一种硅片碱抛光用添加剂，其各组分的含量为：0.5～2质量份明胶、1～2质量份丙烯酰胺、0.5～2质量份季铵盐、1～3质量份对氨基水杨酸钠、4～5质量份硫氰酸铵、3～4质量份烷基糖苷、0.1～0.3质量份苯甲酸钠、81.7～89.9质量份水。在硅片碱抛光的抛光液中添加本发明的添加剂，能改变[111]/[100]面的反应速率，抑制[100]面的反应速度，能改变硅片背面平整度，能使碱抛光后硅片背面形成相对粗糙的小尺寸塔基状结构，小幅度降低硅片背面反射率，这有利于背面浆料接触，提升浆料拉力，还能使FF得以提升，提高电池片电性能。
基本信息
专利标题 ：
硅片碱抛光用添加剂及其应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114032035A
申请号 ：
CN202111279549.5
公开（公告）日 ：
2022-02-11
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
CN114032035B
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
裴银强章圆圆陈培良
申请人 ：
常州时创能源股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省常州市溧阳市溧城镇吴潭渡路8号
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202111279549.5
主分类号 ：
C09G1/04
IPC分类号 ：
C09G1/04 H01L21/306
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/04
水性分散剂
法律状态
2022-06-07 ：
授权
2022-03-01 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/04
申请日 : 20211028
申请日 : 20211028
2022-02-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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