一种硅片抛光垫清洗装置
授权
摘要
本实用新型提供一种硅片抛光垫清洗装置，包括用于储存清洗液的第一水槽和第二水槽、用于清洗上抛光垫和下抛光垫的刷子以及用于控制所述刷子移动的机械臂；所述刷子上端面与所述上抛光垫接触，所述刷子下端面与所述下抛光垫接触；所述第一水槽通过第一水管与所述第二水槽连通，所述第二水槽通过所述第二水管与所述刷子连通；设置在所述刷子上下端部的喷嘴均与所述机械臂轴线成一定角度。本实用新型还提出一种硅片抛光垫清洗方法。本实用新型提出的清洗装置，可完全去除抛光垫表面附着的SiO2胶体颗粒、抛光药液和硅粉，自动化程度高，清洗效果好且效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片抛光垫清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922000782.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-19
授权号 ：
CN211681596U
授权日 ：
2020-10-16
发明人 ：
祝斌王彦君武卫刘建伟刘园刘姣龙裴坤羽孙晨光由佰玲谢艳杨春雪刘秒常雪岩吕莹徐荣清
申请人 ：
天津中环领先材料技术有限公司;中环领先半导体材料有限公司
申请人地址 ：
天津市滨海新区华苑产业区（环外）海泰东路12号
代理机构 ：
天津诺德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
栾志超
优先权 ：
CN201922000782.X
主分类号 ：
B24B53/017
IPC分类号 ：
B24B53/017
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B53/00
用于修整或调节研磨表面的装置或工具、
B24B53/017
用于修整、清洁或者调节研具的设备或装置
法律状态
2020-10-16 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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