用于处理基板的装置
实质审查的生效
摘要
一种基板处理装置，该装置包括：处理容器，其具有内部空间；具有支撑板的支撑单元，其配置为在内部空间中支撑和旋转基板；液体供应单元，其配置为向由支撑单元支撑的基板供应处理液；以及排气单元，其配置为排出内部空间中的气流，其中处理容器包括底壁和从底壁的外端延伸的侧壁，处理容器包括设置在侧壁处的第一气液分离器。
基本信息
专利标题 ：
用于处理基板的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114530395A
申请号 ：
CN202111391470.1
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2021-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
严基象崔晋镐崔炳斗李承汉丁宣旭金是殷
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN202111391470.1
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20211123
申请日 : 20211123
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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