用于处理基板的设备
实质审查的生效
摘要
一种用于处理基板的设备包括：处理容器，其具有内部空间；支撑单元，其具有支撑板，所述支撑板配置成在所述内部空间中支撑和旋转所述基板；液体供应单元，其配置成将处理液体供应至由所述支撑单元支撑的所述基板；以及排气单元，其配置成排放所述内部空间中的空气流，其中所述排气单元包括空气流引导管，所述空气流引导管引导由于由所述支撑单元支撑的所述基板的旋转而在所述基板上流向所述基板的外侧的空气流的流动方向，并且所述空气流引导管具有入口，空气流被引入所述入口中，所述入口设置在与由所述支撑单元支撑的所述基板基本相同的水平处。
基本信息
专利标题 ：
用于处理基板的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114527625A
申请号 ：
CN202111396154.3
公开（公告）日 ：
2022-05-24
申请日 ：
2021-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
严基象李正悦丁宣旭柳杨烈
申请人 ：
细美事有限公司
申请人地址 ：
韩国忠清南道
代理机构 ：
北京市中伦律师事务所
代理人 ：
杨黎峰
优先权 ：
CN202111396154.3
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 H01L21/67 H01L21/687
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20211123
申请日 : 20211123
2022-05-24 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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