一种单晶硅碱抛光添加剂及其使用方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种单晶硅碱抛光添加剂及使用方法，按重量百分比，包括有以下组分：反应催化剂2‑4％、缓蚀阻垢剂1‑2％、表面活性剂0.1‑0.5％、无机盐0.5‑2％、余量为去离子水。本发明的单晶硅碱抛光添加剂及使用方法，相比于传统的酸抛光工艺，减少了环境污染，同时解决碱抛光过程中的过刻问题。该添加剂在碱抛光过程中可以提高硅片背面抛光效果，同时能够保护硅片正面PN结不被破坏。
基本信息
专利标题 ：
一种单晶硅碱抛光添加剂及其使用方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114350265A
申请号 ：
CN202111443863.2
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
周浩陈心浩吴家阳彭丽王涛韩军常帅锋
申请人 ：
嘉兴市小辰光伏科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市秀洲区康和路1288号嘉兴光伏科创园3号楼10F1001室
代理机构 ：
嘉兴启帆专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈宇航
优先权 ：
CN202111443863.2
主分类号 ：
C09G1/04
IPC分类号 ：
C09G1/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C09
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
C09G
抛光组合物；滑雪屐蜡
C09G1/00
抛光组合物
C09G1/04
水性分散剂
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C09G 1/04
申请日 : 20211130
申请日 : 20211130
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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