MEMS集成封装结构及其制备方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了MEMS集成封装结构及其制备方法,MEMS集成封装结构包括树脂基板,所述树脂基板上倒装设置有MEMS芯片,MEMS芯片与所述树脂基板之间具有焊球高度的间隔且焊球通过引脚引至所述树脂基板的外表面,MEMS芯片外部包覆有一层真空成腔覆膜层,真空成腔覆膜层与所述树脂基板的结合处位于所述焊球的外侧使所述MEMS芯片与树脂基板的间隔处形成真空腔,真空成腔覆膜层外通过环氧注塑料与所述树脂基板封装形成环氧树脂包覆层。本发明通过真空成腔覆膜工艺实现MEMS芯片与树脂基板的第一次封装,并在MEMS芯片与树脂基板之间形成一层真空腔,在通过高压注塑进行第二次封装,在实现同样两次封装效果的同时,节省了封装等待时间和工艺流程,节约了封装成本。

基本信息
专利标题 :
MEMS集成封装结构及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114314495A
申请号 :
CN202111599852.3
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2021-12-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王建国
申请人 :
苏州捷研芯电子科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区东富路2号东景工业坊56幢
代理机构 :
南京艾普利德知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
陆明耀
优先权 :
CN202111599852.3
主分类号 :
B81B7/00
IPC分类号 :
B81B7/00  B81B7/02  B81C1/00  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B81
微观结构技术
B81B
微观结构的装置或系统,例如微观机械装置
B81B7/00
微观结构系统
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B81B 7/00
申请日 : 20211224
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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