一种氮化镓HEMT器件的制造加工设备及制造方法
公开
摘要
本发明涉及半导体加工的技术领域，特别涉及一种氮化镓HEMT器件的制造加工设备及制造方法，其使用了一种氮化镓HEMT器件的制造加工设备，包括安装底板、支撑杆、安装轴、封边装置和驱动装置，所述的安装底板下端面靠近四个拐角处固定有多个支撑杆，安装底板上通过轴承转动安装有多个横向布置的安装轴，安装轴的上端连接有封边装置，其中一个安装轴的下侧连接有驱动装置。相比于现有技术，本发明设计了一种可通过调节以适应不同尺寸外延片的封边装置，提升了该制造加工设备的整体利用率和加工效率，并防止了外延片在进行旋转涂胶时光刻胶容易从外延片的表面外侧流出，节约了资源，同时使光刻胶分布的更加均匀，提升了外延片的加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种氮化镓HEMT器件的制造加工设备及制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114296319A
申请号 ：
CN202111636383.8
公开（公告）日 ：
2022-04-08
申请日 ：
2021-12-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沈琨沈承刚沈振宇
申请人 ：
江苏布里其曼科技股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省淮安市淮安区平桥镇兴平街
代理机构 ：
江苏长德知识产权代理有限公司
代理人 ：
汤小权
优先权 ：
CN202111636383.8
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-04-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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