一种用于生长LED外延片的石墨盘
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于生长LED外延片的石墨盘，包括石墨盘本体和多个衬底槽；多个所述衬底槽呈内外两圈均匀分布在所述石墨盘本体上且内外两圈的位置对应加热系统的加热丝位置；所述衬底槽为圆形且槽深为660‑680μm。本实用新型通过在石墨盘上采用内外两圈的衬底槽分布，以替换现有石墨盘上衬底槽三圈分布的方式，对应石墨板下方的加热系统的两圈加热丝的位置，很好的匹配了加热系统的温场，再加上衬底槽的深度优化选择660‑680um，进一步降低了晶圆与边缘接触的效益，使得波长标准差均匀性得到大大改善。
基本信息
专利标题 ：
一种用于生长LED外延片的石墨盘
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122909254.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-25
授权号 ：
CN216698312U
授权日 ：
2022-06-07
发明人 ：
刘恒山吴永胜朱建海马野张少春
申请人 ：
福建兆元光电有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市闽侯县南屿镇生物医药和机电产业园区
代理机构 ：
福州市博深专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
唐燕玲
优先权 ：
CN202122909254.3
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673 H01L33/02
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2022-06-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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