用于外延生长的原位应力光学监控装置
专利权的终止
摘要

本实用新型公开了一种用于外延生长的原位应力光学监控装置包括激光器、激光分束器、图像采集设备、控制系统以及构成相应光路的光学元件,其中,所述光路为,所述激光器发出的激光束经激光分束器分束成平行的激光束,经光学元件入射到待测外延生长片的表面,反射光经光学元件出射,成像在图像采集设备上,其特征在于:在所述外延生长片所处的反应室内,位于样品托的上方,设置有石英全反棱镜,所述光路中,分束后的平行激光束经所述石英全反棱镜反射后,入射到样品托上的外延生长片表面。本实用新型可扩展在位光学系统在各种反应设备中的应用,特别适合于水平结构的HVPE设备。

基本信息
专利标题 :
用于外延生长的原位应力光学监控装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN200720039487.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2007-06-08
授权号 :
CN201033809Y
授权日 :
2008-03-12
发明人 :
王建峰徐科朱建军杨辉
申请人 :
苏州纳米技术与纳米仿生研究所
申请人地址 :
215123江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路150号南大苏州研究生院B-513
代理机构 :
苏州创元专利商标事务所有限公司
代理人 :
陶海锋
优先权 :
CN200720039487.X
主分类号 :
C30B25/16
IPC分类号 :
C30B25/16  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B25/00
反应气体化学反应法的单晶生长,例如化学气相沉积生长
C30B25/02
外延层生长
C30B25/16
控制或调节
法律状态
2015-07-29 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101619198607
IPC(主分类) : C30B 25/16
专利号 : ZL200720039487X
申请日 : 20070608
授权公告日 : 20080312
终止日期 : 20140608
2010-10-27 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101034189161
IPC(主分类) : C30B 25/16
专利号 : ZL200720039487X
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州纳米技术与纳米仿生研究所
变更后权利人 : 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215123 江苏省苏州市苏州工业园区仁爱路150号南大苏州研究生院B-513
变更后权利人 : 215123 江苏省苏州市苏州工业园区若水路398号
登记生效日 : 20100910
2008-03-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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