一种用于固态源注入工艺的离子源装置
授权
摘要
本实用新型提供一种用于固态源注入工艺的离子源装置，其包括坩埚、通道部件以及起弧室，坩埚为一端具有底部、另一端为开口的容器，坩埚开口处的内侧面设置有第一内螺纹；通道部件呈上下贯通的管状，通道部件下端的外侧面上设置有第一外螺纹，第一外螺纹与第一内螺纹相配合地螺纹连接；通道部件上端与起弧室相连接并连通，坩埚的内侧面具有环形的挡肩；通道部件下端面设置有环形的密封片，密封片的一面抵触在挡肩上，密封片的另一面与通道部件下端面相抵触接触。本实用新型的离子源装置大大减少了漏气现象，生产效率高；即使螺纹卡死也可卸下坩埚，保证了气体通道不会被堵住，从而提升了机台有效运行时长，降低了机台维护频次与成本。
基本信息
专利标题 ：
一种用于固态源注入工艺的离子源装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123227777.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-21
授权号 ：
CN216528737U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
李轩杨立军翟军明李强强沈斌汤程夏世伟张劲卢合强高国珺贾礼宾
申请人 ：
北京凯世通半导体有限公司
申请人地址 ：
北京市大兴区北京经济技术开发区地盛西路1号数码庄园A2座
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202123227777.6
主分类号 ：
H01J37/08
IPC分类号 ：
H01J37/08 H01J37/317 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/04
电极装置及与产生或控制放电的部件有关的装置，如电子光学装置，离子光学装置
H01J37/08
离子源；离子枪
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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