一种锗晶片清洗水槽
授权
摘要
本实用新型涉及一种锗晶片清洗水槽，属于单晶片加工技术领域，包括外槽和内槽，所述内槽置于外槽内部，所述内槽包括内槽本体和内槽支架，内槽本体嵌接于内槽支架上，所述内槽本体底部开设有出水孔，顶部设置有喷淋管，侧面下部开数孔分别连接注水管和气管，所述内槽支架内设置有升降台，本实用新型通过在内槽本体底部开设出水孔与升降台相配合，实现内槽的快速排水功能，本装置将喷淋、鼓泡、注水排水功能集于一体，各功能既可单独使用也可多种功能相互配合使用，可更高效的清洗锗晶片表面残留的药物，可最大程度的节约用水。
基本信息
专利标题 ：
一种锗晶片清洗水槽
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123342641.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-28
授权号 ：
CN216420554U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
杨春柳刘汉保赵磊郭建新吕欣泽
申请人 ：
云南中科鑫圆晶体材料有限公司;云南鑫耀半导体材料有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市高新技术开发区新城高新技术产业基地B-5-5地块
代理机构 ：
昆明祥和知识产权代理有限公司
代理人 ：
刘敏
优先权 ：
CN202123342641.X
主分类号 ：
B08B11/00
IPC分类号 ：
B08B11/00 B08B11/02 B08B3/02 B08B3/10 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B11/00
专门适用于清洁柔韧的或精致的物品的方法或装置
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
