基板处理设备用电极
授权
摘要
1.本外观设计产品的名称：基板处理设备用电极。2.本外观设计产品的用途：本产品是用于基板处理设备的电极。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。5.后视图与主视图相同，省略后视图;左视图与主视图相同，省略左视图;右视图与主视图对称，省略右视图。
基本信息
专利标题 ：
基板处理设备用电极
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202130733183.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-08
授权号 ：
CN307348240S
授权日 ：
2022-05-17
发明人 ：
李政镐金材玹辛进豪张显秀
申请人 ：
ASMIP私人控股有限公司
申请人地址 ：
荷兰阿尔梅勒
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
马涛
优先权 ：
CN202130733183.9
主分类号 ：
13-03
IPC分类号 ：
13-03
法律状态
2022-05-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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