一种动态随机存取存储器的形成方法，包括：形成沿所述第二方向贯穿所述有源区的第一沟槽和所述第二沟槽，所述第一沟槽和所述第二沟槽均自所述第一面向所述第二面延伸，且所述第一沟槽位于所述字线区内，所述第二沟槽位于所述沟道区内；在所述第一沟槽侧壁形成字线栅结构和第一隔离结构，且各个所述第一沟槽内的两个字线栅结构之间由所述第一隔离结构相互隔离；在所述第二沟槽内形成第二隔离结构；形成所述字线栅结构、所述第一隔离结构和所述第二隔离结构之后，自所述第二面向所述第一面的方向对所述衬底进行减薄处理，直至暴露出所述第二沟槽。所述第一沟槽和所述第二沟槽在同一次光刻工艺中形成，利于形成均匀的器件沟道，提高器件性能稳定性。