半导体工艺设备及其分离装置
实质审查的生效
摘要

本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其分离装置。该分离装置用于对执行外延工艺键合后的两片晶圆形成的合片进行分离,其包括:基台、承载机构及夹持分离机构;所述承载机构设置于所述基台上,用于放置装载有所述合片的卡匣,并且能伸入所述卡匣内以带动所述合片上升,并使所述合片的主片与陪片之间产生间隙;所述夹持分离机构设置于所述承载机构的上方,用于夹紧具有间隙的所述合片,并将所述主片及所述陪片完全分离。本申请实施例实现了自动化分离合片,以适用于大规模的批量生产,不仅能大幅提高产能及良率,而且还能大幅降低人工成本。

基本信息
专利标题 :
半导体工艺设备及其分离装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114446835A
申请号 :
CN202210111649.5
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2022-01-29
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
赵兴孙增强
申请人 :
北京七星华创集成电路装备有限公司
申请人地址 :
北京市顺义区天竺综合保税区竺园三街6号
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
彭瑞欣
优先权 :
CN202210111649.5
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01L21/687  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 21/67
申请日 : 20220129
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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