一种用于对准掩膜和硅片的相关位置的方法及实现该方法的装置
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
根据本发明对准第一和第二物体的方法，第一和第二物体面对面地安置，对准是在垂直于面对面方向上进行的。第一物体上制有光栅图形。第二物体上制有方格棋盘形光栅图形。从对用光源发出的光束射在第二物体的方格棋盘形光栅图形上。被其衍射的光束被引向第一物体的光栅图形上。由此再被衍射的光束被检测器检测。从而测得第一和第二物体的相对位置，面与它们的间距无关。依照检测结果，第一和第二物体被精确地对准。本发明可被用作对准掩膜和硅片的方法。
基本信息
专利标题 ：
一种用于对准掩膜和硅片的相关位置的方法及实现该方法的装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN87100831A
申请号 ：
CN87100831.9
公开（公告）日 ：
1987-12-09
申请日 ：
1987-02-14
授权号 ：
CN1018866B
授权日 ：
1992-10-28
发明人 ：
田畑光雄东条徹下裕明
申请人 ：
株式会社东芝;东京光学机械株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
杜日新
优先权 ：
CN87100831.9
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2004-04-21 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
2002-03-20 ：
其他有关事项
1993-07-28 ：
授权
1992-10-28 ：
审定
1987-12-09 ：
公开
1987-08-26 ：
实质审查请求
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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