通过近紫外辐射在高解像力的酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活...
专利申请的视为撤回
摘要
本发明提供了一种方法，该方法是通过近紫外辐射曝光，在酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物来形成热稳定的，高解像力影像。这些光活性化合物可以被用作含卤光生酸产生剂的光敏化剂，单靠这些光生酸产生剂本身在通过近紫外辐射曝光后，是不能产生足够的酸来催化酸硬化树脂的交联的。这样的光活性化合物可以从以下一组物质中选出，它们包括：吩噻嗪，吩噻嗪的衍生物，吩嗪。
基本信息
专利标题 ：
通过近紫外辐射在高解像力的酸硬化抗光蚀剂中采用选择的光活性化合物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1048931A
申请号 ：
CN90104923.9
公开（公告）日 ：
1991-01-30
申请日 ：
1990-06-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
维尼·埃德曼得·菲雷
申请人 ：
罗姆和哈斯公司
申请人地址 ：
美国宾夕法尼亚州
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利代理部
代理人 ：
侯天军
优先权 ：
CN90104923.9
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03C1/675
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
1997-08-20 ：
专利申请的视为撤回
1992-09-23 ：
实质审查请求已生效的专利申请
1991-01-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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