在有机聚合物膜上形成图案的方法

专利权的终止

摘要

一种在有机聚合物膜上形成图案的方法，它包括以下步骤：(a)在基片上施加一层包含(a1)有机聚合粘合剂、(a2)烯不饱和单体和(a3)光引发体系的未形成图案的感光性的第一层；(b)在感光性的第一层上施加形成图案的第二层，它包含(b1)防止光化射线通过的对射线不透明材料和(b2)能改变感光材料在预定的冲洗液中的分散能力的扩散剂；(c)将感光性的第一层暴露于光化射线中，使该感光性的第一层中那些未被形成图案的第二层覆盖的部分发生光固化；(d)使扩散剂按图案扩散到其下的感光性的第一层中；和(e)用预定的冲洗剂洗涤，除去感光性的第一层中的在该冲洗剂中可分散的部分；步骤(c)是在步骤(d)之前、之后或同时进行的。

基本信息

专利标题：

在有机聚合物膜上形成图案的方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1079827A

申请号：

CN93104958.X

公开（公告）日：

1993-12-22

申请日：

1993-05-07

授权号：

CN1090767C

授权日：

2002-09-11

发明人：

Ｗ·Ｊ·内伯Ｊ·Ｋ·霍尔茨普费尔

申请人：

E·I·内穆尔杜邦公司

申请人地址：

美国特拉华州

代理机构：

上海专利商标事务所

代理人：

张恒康

优先权：

CN93104958.X

主分类号：

G03F7/00

IPC分类号：

G03F7/00 G03F7/11

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

法律状态

2012-07-11 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101283514658
IPC(主分类) : G03F 7/00
专利号 : ZL93104958X
申请日 : 19930507
授权公告日 : 20020911
终止日期 : 20110507

2002-12-25 ：

发明专利说明书更正

更正卷 : 18
号 : 37
页码 : 扉页
更正项目 : 发明人
误 : W·J·内伯|J·K·霍尔茨普费尔
正 : W·J·内伯|J·K·霍尔茨阿普费尔

2002-12-25 ：

发明专利公报更正

更正卷 : 18
号 : 37
页码 : 274
更正项目 : 发明人
误 : W·J·内伯|J·K·霍尔茨普费尔
正 : W·J·内伯|J·K·霍尔茨阿普费尔

2002-09-11 ：

授权

1995-07-19 ：

实质审查请求的生效

1993-12-22 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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