有机层组成物及图案形成方法

授权

摘要

本发明揭示一种有机层组成物及使用有机层组成物的图案形成方法，有机层组成物包含：聚合物，包含由化学式1表示的结构单元；添加剂，在作为含芳族环化合物的结构中包含经取代或未经取代的胺基、经取代或未经取代的乙烯基、经取代或未经取代的乙炔基、叠氮基或腈基中的至少一者；以及溶剂。化学式1与在说明书中所定义的相同。

基本信息

专利标题：

有机层组成物及图案形成方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN109478015A

申请号：

CN201680087729.4

公开（公告）日：

2019-03-15

申请日：

2016-10-18

授权号：

CN109478015B

授权日：

2022-04-12

发明人：

南沇希姜善惠金瑆焕郑瑟基金旼秀文秀贤

申请人：

三星SDI株式会社

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号(邮递区号:17084)

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司

代理人：

彭雪瑞

优先权：

CN201680087729.4

主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/004 H01L21/033 H01L21/027 H01L21/324 H01L21/02 C08L65/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

法律状态

2022-04-12 ：

授权

2019-04-09 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20161018

2019-03-15 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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