有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有...
实质审查的生效
摘要
本发明涉及有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明的课题提供不仅在空气中会硬化，在钝性气体中的成膜条件下也会硬化，可形成耐热性、于基板所形成的图案的填埋、平坦化特性优异，而且对于基板的成膜性、密接性良好的有机下层膜的酰亚胺化合物、及含有该化合物的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料，含有：(A)下列通式(1A)表示的有机膜形成用化合物；及(B)有机溶剂。[化1]式中，W1为4价有机基团，n1表示0或1的整数，n2表示1至3的整数，R1表示下列通式(1B)中的任1者以上。[化2]
基本信息
专利标题 ：
有机膜形成用材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114380849A
申请号 ：
CN202111162164.0
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郡大佑泽村昂志佐藤裕典
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111162164.0
主分类号 ：
C07D519/00
IPC分类号 ：
C07D519/00 G03F7/004 G03F7/09
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07D
杂环化合物
C07D519/00
杂环化合物，含有1个以上的由两个或更多个相关杂环组成的环系，杂环间彼此稠合，或与1个共同碳环系稠合，不包含在C07D453/00或C07D455/00组内
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07D 519/00
申请日 : 20210930
申请日 : 20210930
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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