基板处理装置
授权
摘要
本发明提供一种可以不会发生轴心错位地沿处理槽的宽度方向来设置可旋转支撑刷子的两端的一对主轴的处理装置，其是通过设置在处理槽内的清洗装置(11)来处理在处理槽内搬送的基板的处理装置，其中，清洗装置包括：具有在同一垂直面上在水平方向上以规定间隔隔开的第一安装部(17)和第二安装部(18)的机架(12)、使轴线平行而在上下方向上配置的第一上部刷子(32)及第一下部刷子(33)、可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第一上部刷子的轴向两端部的一对第一主轴(27)、以及可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第二下部刷子的轴向两端部的一对第二主轴(28)。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1778478A
申请号 ：
CN200510114268.9
公开（公告）日 ：
2006-05-31
申请日 ：
2005-10-21
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
末吉秀树矶明典
申请人 ：
芝浦机械电子株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川
代理机构 ：
北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人 ：
沙捷
优先权 ：
CN200510114268.9
主分类号 ：
B08B1/04
IPC分类号 ：
B08B1/04 H01L21/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B1/00
利用工具，刷子或类似工具的清洁方法
B08B1/04
利用旋转动作的构件
法律状态
2010-11-03 ：
授权
2007-12-05 ：
实质审查的生效
2006-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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