一种底部栅极薄膜晶体管阵列结构及其制造方法
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摘要

一种底部栅极薄膜晶体管阵列结构,在这种结构中,底部栅电极和栅极引线的厚度、层状结构或材料不同。该结构的制作方法是在制作薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCD)的薄膜晶体管(TFT)阵列(Array)时,用于形成像素驱动电极和底部栅电极的导电薄膜是通过同一工艺过程形成的由下层透明导电层和上层金属层构成的复合薄膜。制作完成后,底部栅电极保持复合薄膜的层状结构,而透明的像素驱动电极由复合膜剥离不透明的金属层后的透明导电层形成。通过上述结构和方法制造的薄膜晶体管阵列结构,使底部栅极薄膜晶体管阵列结构更加合理,制作工艺更加简单。

基本信息
专利标题 :
一种底部栅极薄膜晶体管阵列结构及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1959513A
申请号 :
CN200510117619.1
公开(公告)日 :
2007-05-09
申请日 :
2005-11-04
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
皇甫鲁江
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
100016北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN200510117619.1
主分类号 :
G02F1/1368
IPC分类号 :
G02F1/1368  H01L29/786  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
G02F1/1368
其中开关元件为三电极装置
法律状态
2009-01-21 :
授权
2008-01-16 :
实质审查的生效
2007-12-05 :
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
变更后权利人 : 北京京东方光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 北京市朝阳区酒仙桥路10号
变更后权利人 : 北京经济技术开发区西环中路8号
变更事项 : 共同申请人
变更前权利人 : 无
变更后权利人 : 京东方科技集团股份有限公司
登记生效日 : 20071019
2007-05-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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