一种双功函数栅极的上栅极结构、制造方法和晶体管
实质审查的生效
摘要

本发明涉及一种双功函数栅极的上栅极结构、制造方法和晶体管。双功函数栅极的上栅极结构包括:与下栅极接触的金属掺杂层和在金属掺杂层内的钨层;所述金属掺杂层为掺杂镧的氮化钛。通过在氮化钛中掺杂镧形成的金属掺杂层实现调节功函数范围,将P型功函数调整至N型功函数范围,方便刻蚀且不需要额外工艺。因为只需要在氮化钛注入镧即可完成,因此不会在工艺上有大变化,并且不更改工艺与物质,只需要透过沉积的镧的厚度就能调整功函数,有利于晶体管的特性设计。由于金属掺杂层的电阻低,从而能够满足电阻系数和功函数。在氮化钛中掺杂镧,使现在使用的氮化钛和钨的栅极能够继续使用,也不需要增加步骤。

基本信息
专利标题 :
一种双功函数栅极的上栅极结构、制造方法和晶体管
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114334957A
申请号 :
CN202011065507.7
公开(公告)日 :
2022-04-12
申请日 :
2020-09-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
郑磬镐项金娟李亭亭王晓磊
申请人 :
中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区北土城西路3号
代理机构 :
北京辰权知识产权代理有限公司
代理人 :
刘广达
优先权 :
CN202011065507.7
主分类号 :
H01L27/088
IPC分类号 :
H01L27/088  H01L29/423  H01L21/8234  H01L21/28  H01L29/49  H01L27/108  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/08
只包括有一种半导体组件的
H01L27/085
只包含场效应的组件
H01L27/088
有绝缘栅场效应晶体管的组件
法律状态
2022-04-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/088
申请日 : 20200930
2022-04-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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