电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明提供一种电磁聚焦装置和使用该电磁聚焦装置的电子束光刻系统，其能够通过移动极片的中心部分调节电磁场的均匀性。该电磁聚焦装置控制从电子束光刻系统的电子束发射器产生的电子束的路径。在该电磁聚焦装置中，磁场生成器形成真空室中的磁场，该真空室围绕出晶片安装于其中的空间。上和下极片分别穿透该真空室的顶和底壁，彼此面对地安装，且将形成在磁场生成器处的磁场施加到该真空室中。真空室中磁场的均匀性可以通过该上和下极片相对于该真空室的垂直移动来调节。

基本信息

专利标题：

电磁聚焦装置及使用该装置的电子束光刻系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1794092A

申请号：

CN200510126974.5

公开（公告）日：

2006-06-28

申请日：

2005-11-29

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

文昌郁金东洙宋命坤李升运吴润相

申请人：

三星电子株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

李晓舒

优先权：

CN200510126974.5

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20