快速热处理(RTP)系统(110)包括监控由硅晶圆(32)对来自处于较低功率级RTP灯(46)的辐射的吸收而决定的温度的透射高温计(12)。建立涉及对应于晶圆和辐射灯温度的光电检测器的光电流的非标准化值的查找表。校准步骤(170)通过已知的晶圆和灯温度测量光电流并且因此标准化其后测量的所有光电流(142)。透射高温计可用于对低于500℃的热处理执行闭环控制或者用于包括闭环控制的辐射高温计的较高温度工艺的预加热阶段。通过测量初始上升速率并相应重新调整灯功率控制预加热温度上升速率。在具有光束分离器(204)的集成结构中可以包括透射高温计和辐射高温计，其中所述光束分离器划分来自晶圆的辐射。