基板处理装置
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种在将含有冰的微粒的处理液向基板的表面供给而进行基板的处理时、能够以不会产生处理不均匀的方式进行均匀处理、也不会损伤形成在基板上的膜层的装置。该装置具有：进行基板处理的基板处理部(10)；使纯水中含有冰的微粒的冰浆制造装置(12)；使气体溶解于冰浆中的装置；对冰浆进行加压的加压泵(52)以及加压槽(14)；将溶解气体且被加压的冰浆向基板处理部(10)供给的冰浆供给配管(56)。
基本信息
专利标题 ：
基板处理装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1836799A
申请号 ：
CN200610006961.9
公开（公告）日 ：
2006-09-27
申请日 ：
2006-01-26
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
山本悟史
申请人 ：
大日本网目版制造株式会社
申请人地址 ：
日本京都府
代理机构 ：
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 ：
高龙鑫
优先权 ：
CN200610006961.9
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B3/04 F25C1/00 G02F1/13 H01L21/304
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2009-12-02 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-11-22 ：
实质审查的生效
2006-09-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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