晶边清洗的方法
专利权的终止
摘要
本发明公开一种晶边清洗的方法。首先，提供晶片，该晶片的表面包含有涂布材料层。接着利用光学投影方式将光线投影于该晶片上以形成参考图案，且该参考图案在该晶片的表面定义出中央区，以及环绕该中央区的晶边区。随后根据该参考图案，去除位于该晶边区内的该涂布材料层。
基本信息
专利标题 ：
晶边清洗的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101030045A
申请号 ：
CN200610054965.4
公开（公告）日 ：
2007-09-05
申请日 ：
2006-02-27
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄世民杨世培
申请人 ：
探微科技股份有限公司
申请人地址 ：
中国台湾桃园县
代理机构 ：
北京市柳沈律师事务所
代理人 ：
陶凤波
优先权 ：
CN200610054965.4
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2016-04-13 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101655728814
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2006100549654
申请日 : 20060227
授权公告日 : 20091223
终止日期 : 20150227
号牌文件序号 : 101655728814
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2006100549654
申请日 : 20060227
授权公告日 : 20091223
终止日期 : 20150227
2009-12-23 ：
授权
2007-10-31 ：
实质审查的生效
2007-09-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
