半导体器件及其制造方法
专利权的终止
摘要

本发明提供半导体器件及其制造方法,其能实现微型化且高度集成的FeRAM超薄半导体芯片,其中尽管为薄型封装结构,但铁电电容器的特性退化能够得到抑制。利用其填充剂含量值设定在重量百分比90%- 93%的范围内的密封树脂,将该半导体芯片塑封起来,从而形成封装结构。本发明的半导体器件包括:半导体芯片,包含通过排列多个半导体元件构成的存储器单元,每个半导体元件包含铁电电容器结构,该铁电电容器结构通过将具有铁电特性的铁电膜夹在两个电极之间构成;以及密封树脂,用以覆盖并密封上述半导体芯片,该半导体器件形成具有1.27mm或更低的安装高度的薄型封装结构。

基本信息
专利标题 :
半导体器件及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1901146A
申请号 :
CN200610066109.0
公开(公告)日 :
2007-01-24
申请日 :
2006-03-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
西乡薰永井孝一
申请人 :
富士通株式会社
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
隆天国际知识产权代理有限公司
代理人 :
王玉双
优先权 :
CN200610066109.0
主分类号 :
H01L21/56
IPC分类号 :
H01L21/56  H01L23/28  C09K3/10  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02
半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/50
应用H01L21/06至H01L21/326中的任一小组都不包含的方法或设备组装半导体器件的
H01L21/56
封装,例如密封层、涂层
法律状态
2021-03-12 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H01L 21/56
申请日 : 20060324
授权公告日 : 20081008
终止日期 : 20200324
2010-11-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101039588070
IPC(主分类) : H01L 21/56
专利号 : ZL2006100661090
变更事项 : 专利权人
变更前 : 富士通微电子株式会社
变更后 : 富士通微电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本东京都
变更后 : 日本神奈川县横浜市
2010-11-10 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101039588071
IPC(主分类) : H01L 21/56
专利号 : ZL2006100661090
变更事项 : 专利权人
变更前 : 富士通微电子株式会社
变更后 : 富士通半导体股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县横浜市
变更后 : 日本神奈川县横浜市
2008-12-24 :
专利申请权、专利权的转移(专利权的转移)
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 富士通株式会社
变更后权利人 : 富士通微电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县
变更后 : 日本东京都
登记生效日 : 20081121
2008-10-08 :
授权
2007-03-21 :
实质审查的生效
2007-01-24 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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