半导体器件及其制造方法
专利权的终止
摘要

提供一种表现出高击穿电压、极好的热性质、高闩锁承受能力和低导通电阻的半导体器件。根据本发明的包括设置在n型漂移层3和n型漂移层3上的第一n型区7之间的埋置绝缘区5的半导体器件便于限制发射极空穴电流、防止闩锁发生、既不增加导通电阻也不增加导通电压。根据本发明的包括设置在埋置绝缘区5和n型漂移层3之间的p型区4的半导体器件便于在器件的截止状态下耗尽n型漂移层3。根据本发明的包括设置在第一n型区7和n型漂移层3之间的第二n型区6的半导体器件便于将沟道区中或第一n型区7中产生的热经由第二n型区6、n型漂移层3和n型缓冲层2消散到作为半导体衬底的p+型集电层1a。

基本信息
专利标题 :
半导体器件及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101133497A
申请号 :
CN200680006918.0
公开(公告)日 :
2008-02-27
申请日 :
2006-02-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
鲁鸿飞神保信一
申请人 :
富士电机控股株式会社
申请人地址 :
日本川崎县
代理机构 :
上海专利商标事务所有限公司
代理人 :
张鑫
优先权 :
CN200680006918.0
主分类号 :
H01L29/739
IPC分类号 :
H01L29/739  H01L27/08  H01L21/336  H01L27/088  H01L21/8234  H01L27/092  H01L21/8238  H01L29/78  H01L27/04  H01L29/786  
法律状态
2016-04-13 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101655731138
IPC(主分类) : H01L 29/739
专利号 : ZL2006800069180
申请日 : 20060228
授权公告日 : 20100203
终止日期 : 20150228
2011-11-09 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101204910381
IPC(主分类) : H01L 29/739
专利号 : ZL2006800069180
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 富士电机系统株式会社
变更后权利人 : 富士电机株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本神奈川县
登记生效日 : 20110921
2010-07-14 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101003161547
IPC(主分类) : H01L 29/739
专利号 : ZL2006800069180
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 富士电机电子技术株式会社
变更后权利人 : 富士电机系统株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京
变更后权利人 : 日本东京
登记生效日 : 20100604
2010-07-14 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101003161546
IPC(主分类) : H01L 29/739
专利号 : ZL2006800069180
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 富士电机控股株式会社
变更后权利人 : 富士电机电子技术株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本川崎县
变更后权利人 : 日本东京
登记生效日 : 20100604
2010-02-03 :
授权
2008-04-30 :
实质审查的生效
2008-02-27 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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