半导体装置
专利权的终止
摘要

本发明揭示了一种半导体装置,包括具有存储晶体管和选择晶体管的非易失性存储单元和周边电路晶体管。该存储晶体管包括设置在半导体基板上的存储栅氧化膜和设置在该存储栅氧化膜上由多晶硅制成的浮置栅极。该选择晶体管与该存储晶体管串联连接,并且包括设置在该半导体基板上的选择栅极氧化膜和设置在该选择栅极氧化膜上由多晶硅制成的选择栅。该周边电路晶体管包括设置在该半导体基板上的周边电路栅氧化膜和设置在该周边电路栅氧化膜上由多晶硅制成的周边电路栅。该存储栅氧化膜设置成比该周边电路栅氧化膜薄。

基本信息
专利标题 :
半导体装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101373776A
申请号 :
CN200810215396.6
公开(公告)日 :
2009-02-25
申请日 :
2005-12-19
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吉田雅昭
申请人 :
株式会社理光
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
王冉
优先权 :
CN200810215396.6
主分类号 :
H01L27/115
IPC分类号 :
H01L27/115  G11C16/04  G11C16/30  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27/00
由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27/02
包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27/04
其衬底为半导体的
H01L27/10
在重复结构中包括有多个独立组件的
H01L27/105
包含场效应组件的
H01L27/112
只读存储器结构的
H01L27/115
电动编程只读存储器;其多步骤制造方法
法律状态
2017-02-08 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101701027253
IPC(主分类) : H01L 27/115
专利号 : ZL2008102153966
申请日 : 20051219
授权公告日 : 20100804
终止日期 : 20151219
2015-04-29 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101714423312
IPC(主分类) : H01L 27/115
专利号 : ZL2008102153966
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 株式会社理光
变更后权利人 : 理光微电子株式会社
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本大阪
登记生效日 : 20150409
2010-08-04 :
授权
2009-04-22 :
实质审查的生效
2009-02-25 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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